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據(jù)日媒報道，2015年8月起，日本專利廳和美國專利商標局將對日美兩國提出的專利申請開展共同審批合作。日美當局將共享調(diào)查信息，互相參考判斷結果，以大幅提高工作效率，加快審批過程。預計兩國企業(yè)申請專利所需時間也將縮短。

目前，日本的專利審批需要10個月左右，今后將縮短至6個月左右。由于日美兩國的審批將同時結束，企業(yè)在兩國同時推出新產(chǎn)品將變得更加容易。

日媒稱，日美兩國專利局于本月21日就共同審批框架達成共識。據(jù)稱，這將是日本特許廳首次與海外當局實行共同審批，在世界范圍內(nèi)也尚屬首次。最初將以每年數(shù)百宗為上限，受理企業(yè)提出的同時審批申請，今后將逐步增加共同審批的受理數(shù)量。

據(jù)悉，如果能利用該框架，日本企業(yè)申請專利環(huán)境將明顯得到改善。以往，在進行專利審批時，需要調(diào)查過去是否存在同樣的發(fā)明，以及是否具有專利價值，之后由各國當局判斷是否授予專利權。

此次日美將在專利審批方面共享信息，比如作為重要審查資料的龐大論文數(shù)據(jù)庫和專利申請資料等相關信息，從而提高工作效率。審批結果由兩國當局自主作出判斷，但事前會討論并綜合各自重視的要點，減少看漏類似發(fā)明，作出錯誤判斷的風險。（摘自 中國新聞網(wǎng)）