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由日本律師聯合會、日本知識產權協會、美國專利商標局、聯邦巡回法院律師協會(FCBA)等共同主辦的“日美知識產權司法討論會”于2011年10月26日至27日在日本東京召開。研討會圍繞著“日美兩國法官討論及疑問解答”、“特許廳的觀點”、“美國聯邦巡回上訴法院（CAFC）和日本知識產權高等法院在各國的貢獻及未來展望”、“模擬法庭”四個主題進行。

包括CAFC的首席法官Randall R. Radar在內的六名CAFC的法官、包括日本知識產權高等法院所長中野哲弘在內的日本法官、 知識產權局官員以及IP律師、專利代理人深入探討了日美兩國的知識產權司法事務及案例。美國專利商標局局長David J. Kappos、日本特許廳廳長巖井良行也參加了此次研討會，并作了精彩的演講。此外，也有來自中國、韓國等國家的律師和代理人參會。研討會的現場氣氛十分熱烈，與會者與法官的互動機會很多，討論非常熱烈。與會者普遍認為此次研討會規模很大，舉辦的非常成功，對今后的實務操作非常有幫助，并期待有更多類似的研討會。