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集成電路布圖設計代理流程
- 01
集成電路布圖設計申請文件準備
（1）布圖設計登記申請表；
（2）布圖設計的結構、技術、功能簡要說明；
（3）布圖設計的復制件或者圖樣；
（4）復制件或圖樣的目錄；
（5）布圖設計已投入商業利用的，提交含有該布圖設計的集成電路樣品。
- 02
集成電路布圖設計登記的費用
包括官費及代理費。官費每件2005元。
2001年4月，我國頒布了《集成電路布圖設計保護條例》，自此我國開始保護保護集成電路布圖設計。
隨后，我國的國家知識產權局根據上述條例又先后頒布了《集成電路布圖設計保護條例實施細則》（2001）及相關部門規章，最高人民法院頒布了《關于開展涉及集成電路布圖設計案件審判工作的通知》（2001）。這樣就使得我國的集成電路布圖設計保護初步形成了配套的法律法規體系。
截止到2008年12月31日，中國集成電路布圖設計登記共計2097件(包括國外的企業和個人在中國申請的布圖設計登記)。圖1為中國集成電路布圖設計登記年度分布圖。如圖1所示，以公開年統計，2001年-2008年間我國集成電路布圖設計登記的數量基本保持了較快上升的趨勢，這與我國集成電路行業近年來的發展現狀相吻合。2008年，我國登記數量達到創紀錄的606件，較上一年增長69.27%。這說明集成電路設計企業越來越多地利用布圖設計專有權保護創新，積極申請布圖設計登記。
圖1
中國布圖設計登記數量遠超國外省市分布較為集中，2001年-2008年，已公告的全國集成電路布圖設計登記共計2097件。其中，中國大陸企業及個人的布圖設計登記1714件(占總量的81.7%)，中國香港和中國臺灣地區布圖設計登記47件(占總量的2.2%，其中臺灣43件，香港4件)，國外布圖登記336件(占總量的16.0%，其中美國188件、日本126件、南非8件、韓國9件、法國2件、加拿大3件)。由此可見，其他國家在我國申請集成電路布圖設計登記的較少，主要集中于美國和日本(這兩個國家的登記數量占全部國外登記數量的93.45%)，但國外企業最近已經開始重視這方面的布局。
圖2為中國集成電路布圖設計專有權省市排名圖。如圖2所示，國內集成電路布圖設計專有權的分布主要集中在上海、江蘇、北京、廣東四省市。上述地區的集成電路布圖設計登記的累計數量已達中國大陸各省市總量的80%，數量優勢明顯。上海的布圖設計登記數量相對領先，這主要與上海集成電路產業鏈較全、設計企業相對聚集和政府政策引導有關。
圖2
圖3為集成電路布圖設計專有權產品的結構分布圖。如圖3所示，已經登記的集成電路布圖設計登記所涉及的產品，按結構分類主要包括Optical-IC(光電集成電路)、MOS(金屬-氧化物-半導體)、Bipolar(雙極)、Bi-MOS(雙極-金屬-氧化物-半導體)等。其中MOS類型所占比重最大，共計442件，約占總量的73%；其次為Bipolar，共計85件，約占總量的14%。
圖3
截止到2008年12月31日，布圖設計申請登記時，已投入商業利用的布圖設計共計1374件，而申請登記時，還未投入商業利用的布圖設計共計723件。在申請登記時，將近65%的布圖設計已經投入商業利用，集成電路布圖設計的商業利用情況總體較好。
從申報到獲得證書需要多長時間
通常在3-5個月之內，視專利局處理速度而定。
一個芯片申報多個集成電路布圖設計登記的好處
集成電路布圖設計保護的是集成電路，是指半導體集成電路，即以半導體材料為基片，將至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路集成在基片之中或者基片之上，以執行某種電子功能的中間產品或最終產品。
因此只要是芯片中具有獨立功能的、包含至少一個有源器件的模塊，就可以申報一個集成電路布圖登記。這樣做的好處是：1、可以獲得多個證書；2、打印出的集成電路布圖設計較為清晰。
集成電路布圖設計的保護時間
布圖設計專有權的保護期為１０年，自布圖設計登記申請之日或者在世界任何地方首次投入商業利用之日起計算，以較前日期為準。但是，無論是否登記或者投入商業利用，布圖設計自創作完成之日起１５年后，不再受到保護。
